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测试仪器***用的是荷兰帕纳科以及日本理学的***artlab 9kw设备。GIXRD以其短贯穿深度、高信噪比和可控的分析深度在材料科学中被广泛应用。为了保证测试的准确性,所使用的样品需表面光滑平整,测试区域边缘处无遮挡。注意的是,掠入射测试需要平行光源,因此薄膜、镀层及粉末类样品可以进行测试,但液体类样品则无法进行GIXRD测试。
GIXRD的测试周期通常为5-10个工作日。这一时间范围涵盖了从样品接收到测试完成并出具报告的全过程。具体时间可能因实验室的工作安排、样品数量以及测试需求的复杂性而有所变化。测试仪器 GIXRD测试主要使用荷兰帕纳科和日本理学(如***artlab 9kw)等品牌的先进X射线衍射仪。
以氮化铝(AlN)为例,高质量AlN晶体的生长质量可通过摇摆曲线的测量得到直观体现,具体来说,它反映了X射线在样品中被晶体反射后的衍射束发散程度,半高宽(FWHM)越小,晶体质量越好。
高分辨率仪器的应用:使用高分辨X射线衍射仪,如日本理学RIGAKU ***artlab 9kw,能够更精确地测量摇摆曲线,从而更准确地评估晶体的生长质量。通过对比不同样品的摇摆曲线,可以直观地看出晶体质量的差异。多因素考量:摇摆曲线的分析不仅涉及衍射束发散程度,还需要考虑X射线线宽、仪器分辨率等因素。
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